sk海力士大连二厂将建“200层中段”fg nand产线 2027年下半年或全面量产-九游会j9登录入口

   时间:2026-06-04 14:59 作者:冯璃月

在3d nand闪存技术领域,sk海力士正推进一项重要布局。据韩媒报道,该公司计划在大连二厂建设采用浮栅(fg)结构的3d nand产线,目标层数达到200层中段(约250层)。这一决策使其成为全球主要闪存厂商中,唯一坚持fg技术路线的企业。

当前,三星、美光、铠侠等厂商均采用电荷阱(ct)结构生产3d nand,而sk海力士通过收购英特尔闪存业务,保留了fg nand生产线。其大连一厂已具备192层fg nand的量产能力,为技术迭代奠定了基础。去年,该公司已完成200层以上fg nand的研发,现正将重心转向量产准备。

根据规划,sk海力士将于2026年第三季度在大连二厂建设中试线,相关设备采购已启动。若进展顺利,预计2027年下半年可实现全面量产。这一时间表显示,该公司正加速推进fg技术向更高层数的突破。

技术路线选择背后,是sk海力士对市场需求的精准判断。fg结构在每单元存储比特数更高的qlc nand闪存中表现更优,而ai推理等应用场景对读取密集型ssd的需求持续增长,恰好与qlc的特性契合。延续fg技术路线也有助于旗下solidigm保持产品开发的连贯性,巩固其在特定市场的竞争优势。

 
 
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